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          氣液處理器

          錄入時間:2019-05-30 09:28:35 

          氣液處理器為框架組合式結構,由堿液換熱器,氫、氧分離器,氫、氧洗滌冷卻器,循環泵,堿液過濾器及閥門、管道、管件、氫、氧純度分析儀,氣動薄膜調節閥、一次儀表、框架等組成。

          設備構成如圖所示:


          氣液處理器內部結構圖


          1.

          框架

          2.

          電纜架

          3.

          防爆接線箱

          4.

          氫分離器

          5.

          堿液換熱器

          6.

          氫洗滌器

          7.

          捕滴器

          8.

          氧洗滌器

          9

          氧分離器

          10.

          氫分析儀

          11.

          氧分析儀

          12

          循環泵


          下圖為氣液處理器典型流程圖,電解槽電解產生的氫氣和氧氣經各自通道分別進入氣液處理器,經冷卻、分離、除濕凈化后進入各自儲罐或純化系統;電解液經過濾器去除機械雜質后由循環泵打回電解槽。

          氣液處理器按介質可將系統劃分成氫、氧氣體系統,堿液循環系統,水堿補給系統及冷卻水系統。




          氫、氧氣體系統


          從電解槽出來的氫氣堿液混合體經換熱器降溫,進入氫分離器后,在重力作用下進行氣液分離,氫氣由上層管道進入氫洗滌器,經洗滌器冷卻、洗滌以及捕滴網捕滴,最大限度減少氣體中的含堿量和含水量,最終經薄膜調節閥放空或進入純化裝置。

          氧氣處理過程與上述過程相同。



          電解液循環系統



          氫氧分離器中的堿液經分離器底部的連通管匯集,在循環泵的驅使下經堿液過濾器去除機械雜質,后進入電解槽來參與下一次電解反應,形成閉環系統。洗滌器中洗出的堿液可由溢流管返回氣液分離器。

          水堿補給系統

          隨著制氫設備的運行,系統內的水不斷消耗并體現在氫氧分離器的液位不斷下降,當液位低于系統設定值時,系統內的加水泵就會自動啟動,將水箱中的水注入氫(氧)洗滌器并溢流至分離器中,當分離器液位上漲至設定上限時,加水泵自動停止工作;當堿液的濃度下降時,也可以將堿箱中少量堿液直接打入電解液循環系統。

          由冷卻水總管道來的冷卻水分兩路進入設備,一路通過氣動薄膜調節閥進入堿液換熱器,冷卻循環堿液,通過控制薄膜閥調節冷卻水量,從而使電解槽的工作溫度維持在85±5oC;另一路通過球閥進入氫、氧洗滌器中,來冷卻氣體,降低氣體的含堿量和含水量,確保出口氣體的溫度不高于40oC。

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